武汉经济技术开发区52MD地块研发楼(共两栋大楼)
发布时间:2018-06-21 15:12:01
文章来源:原创文章
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情况简介

本次招商标的为武汉三川印务有限公司两栋房产。现公开寻求意向投资者。

标的:武汉经济技术开发区52MD地块研发楼(共两栋大楼)

一、项目优势

招商标的位于武汉经济技术开发区神龙大道与江城大道交汇处52MD地块研发楼(共两栋大楼),交通便利,10分钟车程覆盖范围商圈:万达经开店,永旺梦乐城,华发未来荟,湘隆时代广场教育:江汉大学,武汉外国语学校,三牛中美学校医疗:亚洲心脏病医院,协和医院,江汉大学附属医院体育文化:东方高尔夫,武汉体育中心,足球公园行政办公:开发区管委会,华中创谷,华中智谷,东风总部等。

二、项目基本情况

招商标的位于武汉经济技术开发区神龙大道与江城大道交汇处52MD地块研发楼(分主附两栋大楼),所在建筑主楼地面24层地下1层,建筑面积40460平方米,1楼层高6米,2楼层高5.7米,3-23楼层高3.6米。附楼地面5层地下1层,建筑面积共18900平方米,1楼层高6米,2楼成高5.7米,3-5楼层高3.9米;其中主楼1-20层已出租。

 

以上房产请有意向的投资者与武汉光谷联合产权交易所江城产权交易有限公司联系。

联系人:谢先生

电话:027-85774004

地址:武汉市江岸区香港路183号(香港路地铁站B出口)